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真空氣氛爐需要注意的事項，上海皓越已經為您一一列舉出來了

用過儀器設備的朋友都應該知道，在使用它們的時候一定不能超負荷使用。真空氣氛爐亦是如此，用戶在進行購買本設備的時候一般都會告知生產廠家自己所需的溫度，廠家按照此溫度來進行生產，所以，用戶在使用時，切記不可超過此溫度來使用。然而，這只是真空氣氛爐使用注意其中的一點，還有很多需要注意的地方，下面有上海皓越為您一一道來：本設備的日常使用注意事項：1、設備及控制柜都要保證接地。安裝加熱元件時，正負極要對照好再進行安裝，安裝時不可用力過猛，防止加熱元件斷裂；2、進行熱處理實驗時，要避免加...

熱壓爐在開機前需要做好哪些準備工作？

熱壓爐主要由爐體、爐門、加熱與保溫及測溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、液壓系統(tǒng)等組成。該設備為周期作業(yè)式，廣泛應用于硬質合金、功能陶瓷、粉末冶金等在高溫、高真空條件下進行熱壓燒結處理，也可在充氣保護情況下熱壓成形燒結。熱壓爐的性能特點：1、熱壓爐主機為臥式單室結構，由爐體、爐蓋、加熱室和強制循環(huán)氣冷裝置等組成。2、爐體和爐蓋為雙壁水冷結構，內外壁采用碳鋼制造。兩層之間有夾縫，內通冷卻水，前端與爐口法蘭相連接，后端與封頭相連接，在爐體的后端留有與風冷電機相連接的...

箱式可控氣氛爐在加熱時一定要注意它的加熱材質

箱式可控氣氛爐滿足于不同工藝實驗而特殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實驗和生產設備。箱式可控氣氛爐主要作用于物體的燒結，而在制品的燒結過程中可控氣氛爐能夠有效地提高制品的致密化程度從而獲得良好的性能制品。適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納...

第十八屆中國科學儀器及實驗裝備展覽會

中國科學儀器及實驗室裝備展覽會（以下簡稱CISILE），創(chuàng)立于2003年，每年一屆，在京舉辦，歷經17年的成長與開拓，目前已成為我國科學儀器領域規(guī)模大、水平高的化專業(yè)展會之一。第十八屆中國科學儀器及實驗室裝備展覽會（CISILE2020）將于2020年12月8-10日在北京·國家會議中心召開！本次展會我司要隆重展出SPS/DCS放電等離子燒結系統(tǒng)設備；再此皓越科技誠邀您的觀展，期待與您相約北京國家會議中心！

這些有關真空氣氛燒結爐的使用技巧，您一定要牢牢掌握住

真空氣氛燒結爐采用進口保溫材料，高純度氧化鋁多晶纖維。溫度由雙鉑銠熱電偶和鋁智能溫度控制器708P控制。該爐可通過氮氣，氬氣等惰性氣體保護物料免受氧化和脫碳，具有平衡的溫度場，快速的升溫和冷卻，高效節(jié)能，外觀精美，實用的特點。廣泛用于燒結，還原惰性氣體。高校實驗室，科研院所以及工礦企業(yè)。真空氣氛燒結爐主要結構及組成：結構形式多為立式、下出料方式。其主要組成為：電爐本體、真空系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、氣動系統(tǒng)、液壓系統(tǒng)、進出料機構、底座、工作臺、感應加熱裝置（鎢加熱體及保溫材料）、進電裝...

看完這個，您就知道自己到底了不了解等離子增強化學氣相沉積爐

等離子增強化學氣相沉積爐備配有Plasma實現(xiàn)等離子增強，滑軌式設計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調裝置，可準確的控制反應腔體內部的氣體壓力，帶刻度的調節(jié)閥對于做低壓CVD非常簡單實用，工藝重復性好，對于石墨烯生長工藝非常合適，也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。主要功能和特點：1、利用輝光放電產生等離子體電子激活氣相；2、提...

看了這里你就知道氣壓燒結爐擁有哪些優(yōu)勢了！

氣壓燒結爐采用高純石墨作發(fā)熱體，熱電偶作測溫元件，用精密數(shù)顯程序控溫儀控溫，能實現(xiàn)爐溫的自動程序升降。由二級真空機組對爐膛進行抽真空，可實現(xiàn)樣品的真空燒結，同時也可注入保護氣氛或反應氣氛作氣壓高溫燒結。設備廣泛應用于結構陶瓷、功能陶瓷、硬質合金、生物陶瓷、人工晶體、復合材料等的燒結試驗。應用：本燒結爐為周期作業(yè)式，結構借鑒國外同類產品，氣動快速打開爐蓋。適用于氮化硅陶瓷球，陶瓷刀具等材料在高壓氮氣或氬氣氣氛內進行燒結。有利于增加材料的燒結密度，提高材料的機械性能。氣壓燒結爐的...

三溫區(qū)管式爐在組件上都有哪些配置你清楚嗎？

三溫區(qū)管式爐有多個加熱區(qū)，采用雙層殼體結構和宇電控溫儀表，每個加熱區(qū)能進行30段程序控溫，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，爐管兩端裝有不銹鋼法蘭，不銹鋼法蘭上安裝有氣嘴、閥門和壓力表，抽真空時真空度能夠達到10-3Pa，該爐為臥式，兩個溫區(qū)可以獨立控制、設置不同的溫度，使用方便，操作簡單，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產品。組件配置：1、控溫儀表：三溫...